تهیه، مطالعه و رشد نانوساختار ایندیم آلائیده شده

در این پروژه نانو ساختارهای اکسید ایندیم بدون آلایش و آلائیده شده با عناصری نظیر قلع، فلوئور و مولیبدنیم بر روی زیرلایه های شیشه ای و به روش اسپری پایرولیزز تهیه شده است. پارامترهای مختلفی نظیر دما، غلظت و مقدار محلول و نیز آهنگ شارش هوا مورد بررسی قرار گرفته است. در این تحقیق از کلرید ایندیم (incl3) به عنوان ماده منبع و از sncl2.2h2o و nh4f و mocl5 به ترتیب به عنوان دوپهای sn، f و mo استفاده شده است. در این پروژه به مطالعه خواص فیزیکی لایه های نازک اکسید ایندیم پرداخته و سپس، به بررسی نانو ساختار اندازه دانه ها در لایه های دوپ شده و خالص پرداخته شده است. خواص ساختاری این لایه ها توسط دستگاههای xrd و sem بررسی شده است. خواص الکتریکی و اپتیکی لایه ها نیز به ترتیب با دستگاههای اثر هال و اسپکتروفتومتر uv-visible مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین با استفاده از نرم افزار puma ضخامت لایه ها بدست آورده شد و تغییرات ضریب شکست، ضریب خاموشی و باند گاف برای این لایه ها مورد بررسی قرار گرفت. بهینه دمای زیرلایه برای فیلمهای نازک اکسید ایندیم در حدود دمای c ? 575 و برای فیلمهای ito در gr8/0 از پودر کلرید ایندیم با غلظت wt%5 از sn و دمای c ?600 حاصل شد. طبق این شرایط بهینه، حداقل مقاومت سطحی ?/? 12 و شفافیت %85 برای این لایه ها بدست آمد. بهینه فیلمهای ifo در gr2/0 از پودر کلرید ایندیم با غلظت wt%2 از فلوئور در دمای c ? 575 بدست آمد. با این شرایط نمونه ها دارای مقاومت سطحی ?/? 140 و شفافیت %6/87 می باشد. بهینه لایه های imo تهیه شده با gr2/0 از پودر ایندیم با غلظت wt%1 از mo در دمای زیرلایه c ? 550 تهیه شده است. در این شرایط بهینه اندازه گیری مقاومت سطحی در حدود ?/? 94 و شفافیت آن در ناحیه مرئی %8/77 بوده است.